华虹宏力获得沟槽栅的制作办法专利

作者：新闻中心来源：新闻中心时间:2025-03-03 03:21:05

金融界2024年12月11日音讯，国家知识产权局信息数据显现，上海华虹宏力半导体制作有限公司获得一项名为“沟槽栅的制作办法”的专利，授权公告号CN 114220734 B，请求日期为2021年12月。

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